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鋁氧化

鋁氧化

產品詳情

鋁氧化工藝流程的前兩個步驟如下:

一、上料。1、型材上料前將動臂接觸面打磨干凈,按標準支數上料。2、上架支數的考慮原則:a、硅機容量利用率在95%以下;b、電流密度為1.0—1.2A/dm。c、在型材的形狀和兩根型材之間留下必要的間隙。3、鋁氧化時間的計算:氧化時間(t)=膜厚k·電流密度。k為電解常數,為0.26—0.32,t單位為分鐘。為了便于排液和排氣,上排結束時傾斜,傾斜5度為宜。兩端不得超過導電桿10—20mm,最大不得超過50mm。

二、低溫研磨。1、槽中的低溫研磨劑濃度控制在總酸25—30g/l、最低15g/l;溫度必須在20攝氏度以上;研磨時間為90~200s。2、提架傾斜,滴下殘液后,迅速放入清水槽漂洗,經過兩次水洗后迅速氧化。低溫研磨材料在研磨前不能進行其它方式的處理,也不能將其它槽液帶入研磨槽。

以上就是鋁氧化工藝流程的前兩個步驟介紹,感謝閱讀。


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